UV(紫外线)光催化氧化设备的一般要求是维护

发布时间:2020-06-19 10:55:06 点击数:62

UV(紫外线)光催化氧化设备的一般要求是维护。 UV(紫外线)光催化设备可有效去除挥发性有机化合物,硫化氢,氨和其他无机污染物以及各种恶臭。 除臭效率可高达99%。 除臭效果远优于恶臭污染物排放标准(GB14554-93)。 青岛德尔环球环保技术有限公司生产的UV(紫外线)光催化设备可用于大多数高浓度,大气压和不同恶臭气体物质的除臭和净化。 它可以通过合理的模块配置广泛使用:炼油厂,橡胶厂,除臭,化工厂的灭菌和净化,制药厂,污水处理厂,废物转运站,污水泵房,中央空调和其他有毒气体。 它可以24小时连续工作,并且运行稳定可靠。 为什么高能离子在光催化氧化设备上效果很好? 使用前,必须将所有溶剂过滤至0.45μm(或0.22μm)以除去异物,并且色谱纯试剂也不例外(除非标签上标明“已过滤”)。 使用滤膜时,请特别注意区分有机相(脂溶性)膜和水相(水溶性)膜。 有机相膜通常用于过滤有机溶剂。 过滤水溶液时,流速低,否则过滤器将使用水膜过滤水溶液。 严禁使用有机溶剂,否则会溶解膜! 溶解在膜中的溶剂不能用于HPLC。 对于混合流动相,可以在混合前分别过滤。 如果您需要在混合后进行过滤,则有机相过滤器是,现在有混合过滤器出售。

青岛德尔通用环境技术有限公司生产的UV(紫外线)光催化设备是工业废气处理技术中的先进技术之一。 紫外光催化设备的开发充分考虑了工业废气特性的不确定性和复杂性。 从工程设计,支持,安装,调试和维护,它提供了极大的可行性,可靠性,灵活性和有效性。 惠康环保设计生产的紫外光催化设备结合了活性氧技术,TIO2技术,光触媒技术,负氧离子技术,净化率高,质量好,可广泛用于电子,石化,油漆,化工,光化学等领域。 光催化氧化法是目前一种先进的氧化技术,并已得到越来越多的研究,如医药,铁印,印刷,纺织,家具等。 所谓的光催化反应是在光的影响下进行的化学反应。 光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射并受到刺激以产生分子的激发态,然后化学反应将发生,以生成新物质或成为引发热反应的中间化学产物。 光化学反应的活化能来自光子的能量。 光电转换和光化学转换一直是太阳能利用中非常活跃的研究领域。 光催化氧化技术使用光诱导氧化将O2,H2O2和其他氧化剂与光辐射结合在一起。 所使用的光主要是紫外线,包括uv-H2O2,uv-O2等工艺,可用于处理污水中的CHCl3,CCl4,PCBs和其他难熔物质。 另外,在具有紫外线的芬顿体系中,紫外线和铁离子具有协同作用,这极大地促进了H 2 O 2分解速率以产生羟基自由基,并促进了有机物的氧化去除。 价格基于质量。 至于光解设备,则取决于您处理的空气量。 在高能紫外光束的照射下,废气被降解以产生CO2和HO2。 辐照空气中的氧气分子使它们成为活性氧,然后与氧气分子聚集在一起形成臭氧以去除异味。


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